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 氮化硼粉末

氮化硼粉末MOMENTIVE HCPL

概述:
Momentive高新材料的氮化硼粉末HCPL是純度非常高的單晶六方體結(jié)構(gòu)。這些超細(xì)粉末的平均粒徑在6-13μm之間,其中超過(guò)99.9%以上可達(dá)到325目。

HCPL(NSF-H2,HX-1,HX-2)
HCPL的表面積低于HCP,這使它在高溫下有更好的潤(rùn)滑性和穩(wěn)定性。在許多配方中可改進(jìn)混合性。

應(yīng)用
這些產(chǎn)品廣泛用于要求苛刻的應(yīng)用領(lǐng)域,包括高溫工況下的金屬和玻璃加工脫模劑,電子產(chǎn)品中的熱處理材料。此外,這些產(chǎn)品也被用做固體潤(rùn)滑劑的添加劑及熱壓固體、復(fù)合材料和耐火涂料的基礎(chǔ)材料。

典型性質(zhì) HCPL
晶體類(lèi)型   六方(石墨)   
顏色 白色 
平均粒徑μm 9-12 
晶體大小μm
表面積,m2/g
振實(shí)密度,g/cc 0.5 
氧含量,% 0.4 
  可溶性硼酸鹽,%   0.2 
碳含量,% 0.03 

氮化硼的一般特性
    導(dǎo)熱性
    絕緣性
    低的介電常數(shù)和介電損耗
    高溫穩(wěn)定性
    潤(rùn)滑性
    化學(xué)惰性
    不潤(rùn)濕性
    各種晶體大小和微粒形態(tài)

Momentive 高新材料生產(chǎn)超過(guò)80種級(jí)別的BN粉末,以滿(mǎn)足廣泛的應(yīng)用需求,并且擁有超過(guò)40年的氮化硼粉末的合成技術(shù)與精制經(jīng)驗(yàn)。
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